日本光馳Gener1300真空鍍膜機技術參數
真空系統 真空室材質:SUS304不銹鋼,尺寸為Ф1300mm×1500mm(H) 極限真空度:7.0×10?? Pa以下,抽氣時間10分鐘(大氣壓至3.0×10?³Pa) 排氣配置:機械泵+擴散泵組合,可選配Polycold低溫冷凝器
鍍膜核心組件 基板架:4片式工作架(或Ф1200mm單架),轉速0-30rpm可調 蒸發源:1臺電子槍,支持高熔點材料鍍膜
膜厚控制:晶振式膜厚計(XTC/3+6點式水晶傳感器),光學監控波長范圍350-1100nm 工藝性能
基板加熱溫度:最高350℃,控溫精度±1℃ 鍍膜均勻性:行星式工件架設計,邊緣膜厚差異≤3%
膜層控制精度:±0.5nm(光學監控+石英晶體補償) 設備配置與擴展性 可選模塊: 高精度光控儀(多層AR鍍膜專用) 離子源(17cm RF離子源,提升膜層致密度) 雙電子槍系統(支持復雜膜系,如紅外截止濾光片)
安裝要求: 空間需求:約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
電力:3相200V/50-60Hz,80-104KVA 冷卻水:100-140升/分鐘,壓力0.5MPa 應用場景與維護
典型應用:減反射膜、紅外濾光片、光學分色膜等 維護要點: 每500小時更換機械泵油,2000小時檢測分子泵狀態 定期清潔真空室及密封圈,防止粉塵污染