一、核心規格參數 鍍膜系統 有效鍍膜區域:Φ1650×H850mm(支持最大2.5m²基板) 腔室結構:6個獨立工藝腔室(預清洗/刻蝕/雙DC濺射/成膜/冷卻/裝卸) 真空系統: 極限真空度:8.0×10??Pa(成膜室) 抽速能力:3.0×10?³Pa(≤15分鐘) 靶材配置 旋轉陰極:6組(直徑Φ200mm,轉速0-30rpm可調) 兼容靶材:Nb、Si、Cr、Al及其合金(靶材利用率≥85%)
二、關鍵技術優勢 智能控制系統 全自動提拉升降轉架(節拍時間≤8分鐘) 7寸工業觸摸屏(支持KT-Z1650PVD同款控制邏輯) 工藝參數數據庫(存儲≥100組膜系配方) 工藝創新設計 專利離子源(離化率≥60%,基板溫度≤80℃) 動態氣體流量控制(精度±1.5%FS)
三、典型應用方案 應用領域 膜系示例 膜層特性 車載光學鍍膜 SiO?/Nb?O?(5-8層) 可見光透過率≥92% 3C裝飾鍍膜 TiN/ZrO?漸變膜系 色差ΔE≤1.5(CIELAB) 功能性鍍膜 Si?N?硬質膜(厚度2-5μm) 鉛筆硬度≥9H
四、擴展配置選項 夾具系統 標準配置:中心旋轉公轉夾具(承重50kg) 可選配置:掛板式夾具(寬度200-300mm,支持異形件) 維護設計 工藝腔室180°旋轉開門(維護空間≥1.2m) 快拆式靶材支架(更換時間≤30分鐘)