設備基礎架構
真空系統 復合排氣配置:機械泵+2×擴散泵+Polycold(或雙冷凝泵設備基礎架構 真空系統
復合排氣配置:機械泵+2×擴散泵+Polycold(或雙冷凝泵) 極限真空:7.0×10?? Pa(抽氣時間15分鐘至1.3×10?³ Pa)
真空室材質:SUS304不銹鋼(Φ1550mm×1800mm) 鍍膜核心組件 雙電子槍系統:支持環形/多點坩堝,實現100+層鍍膜 離子源:17cm RF離子源,離子電流密度均勻分布
工件架:Φ1400mm鐘罩式/行星式可選(10-30rpm無級調速) 智能控制與監測
膜厚監控: 光學監控:HOM2-R-VIS350A(350-1100nm反射/透射雙模式) 石英晶振:XTC/3+6點式傳感器
自動化系統:全自動蒸鍍控制程序,支持工藝參數實時優化 性能參數 類別 指標 基板溫度 ≤350℃ 設備尺寸 5.5m(W)×7.2m(D)×3.7m(H) 電力需求 3相200V/50-60Hz/120KVA 冷卻系統 水冷≥180L/min,氣源≥0.5MPa 典型應用
光學薄膜:紅外截止濾光片、分色濾光片、AR/IR復合膜 工業鍍層:高反射鏡、太陽能電池減反膜、精密光學元件)
極限真空:7.0×10?? Pa(抽氣時間15分鐘至1.3×10?³ Pa)
真空室材質:SUS304不銹鋼(Φ1550mm×1800mm) 鍍膜核心組件 雙電子槍系統:支持環形/多點坩堝,實現100+層鍍膜
離子源:17cm RF離子源,離子電流密度均勻分布 工件架:Φ1400mm鐘罩式/行星式可選(10-30rpm無級調速) 智能控制與監測
膜厚監控: 光學監控:HOM2-R-VIS350A(350-1100nm反射/透射雙模式) 石英晶振:XTC/3+6點式傳感器
自動化系統:全自動蒸鍍控制程序,支持工藝參數實時優化 性能參數 類別 指標 基板溫度 ≤350℃ 設備尺寸 5.5m(W)×7.2m(D)×3.7m(H) 電力需求 3相200V/50-60Hz/120KVA 冷卻系統 水冷≥180L/min,氣源≥0.5MPa 典型應用
光學薄膜: 工業鍍層:高反射鏡、太陽能電池減反膜、精密光學元件