韓國韓一（HANIL）HVC-2050真空鍍膜機的綜合技術明細介紹： ‌

一、核心參數與結構‌ ‌真空系統‌ 真空室尺寸：Φ2050mm（臥式設計，高度1800mm），兼容直徑2000mm基板架，支持5片式批量處理。 極限真空度：≤7.0×10?? Pa（機械泵+羅茨泵+擴散泵組合），抽速優化至15分鐘內從大氣壓降至2.0×10?³ Pa24。 保壓性能：關閉高閥后1小時內真空度≤8×10?² Pa1。 ‌蒸發源配置‌ 蒸發源類型：標配1臺電子槍（EB）+1臺熱阻蒸裝置，支持金屬/高熔點材料與有機物雙工藝。 坩堝設計：環形或多點旋轉坩堝（12穴），可鍍制100層以上復雜膜系。 ‌驅動與運動系統‌ 工件架類型：鐘罩式或行星式可選，轉速10-50rpm可調，適配曲面/異形基材。 基板加熱：最高溫度350℃，提升膜層附著力。

 ‌二、鍍膜控制系統‌ ‌膜厚監控‌ 晶振傳感器：6點式晶控（XTC/3+），實時調控沉積速率46。 光學監控：HOM2-R-VIS350A系統，波長范圍350-1100nm（反射/透射式），膜層均勻性誤差≤±1%。 ‌輔助技術‌ 離子源：配置12寸射頻（RF）離子源或霍爾離子源（韓一GTHC8×2），增強膜層致密性（通過4萬次耐磨驗證）。 自動化：ACS全自動鍍膜系統，支持工藝參數存儲與閉環控制。 ‌

三、性能與工作條件‌ ‌項目‌ ‌參數‌ 加工效率 單次鍍膜周期15-30分鐘，年產能≥10萬片 電源需求 三相380V/50Hz，峰值功耗80-120KVA冷卻水 ≥140升/分鐘（0.3-0.5MPa，18-25℃）壓縮空氣 0.4-0.8MPa 整機尺寸 ≈2300×2800×3300mm（寬×深×高） 設備重量 約8-9噸

 ‌四、典型應用領域‌ ‌消費電子‌：智能手機蓋板玻璃AR/AF防污膜、觸控屏ITO導電膜鍍制。 ‌光學器件‌：車載后視鏡、滑雪鏡片、潛水鏡的增透膜（AR）與七彩裝飾膜。 ‌工業鍍膜‌：工具硬質涂層（PVD）、水晶飾品表面裝飾鍍層。

 ‌五、設備變體與選配‌ ‌HVC-2050DA型號‌：集成霍爾離子源，適配車載鏡片高耐磨需求。 ‌擴展性‌：可選配深冷捕集泵（Polycold）或冷凝泵，提升真空穩定性。 注：部分二手設備含3-6個月保修及工藝培訓服務，實際參數以制造商技術文檔為準