日本光馳Gener1300真空鍍膜機技術參數 
‌真空系統‌ 真空室材質：SUS304不銹鋼，尺寸為Ф1300mm×1500mm（H）‌ 極限真空度：7.0×10?? Pa以下，抽氣時間10分鐘（大氣壓至3.0×10?³Pa）‌  排氣配置：機械泵+擴散泵組合，可選配Polycold低溫冷凝器‌  
‌鍍膜核心組件‌ 基板架：4片式工作架（或Ф1200mm單架），轉速0-30rpm可調‌  蒸發源：1臺電子槍，支持高熔點材料鍍膜‌  
膜厚控制：晶振式膜厚計（XTC/3+6點式水晶傳感器），光學監控波長范圍350-1100nm‌ ‌工藝性能‌ 
基板加熱溫度：最高350℃，控溫精度±1℃‌  鍍膜均勻性：行星式工件架設計，邊緣膜厚差異≤3%‌ 
膜層控制精度：±0.5nm（光學監控+石英晶體補償）‌  設備配置與擴展性 ‌可選模塊‌： 高精度光控儀（多層AR鍍膜專用）‌ 離子源（17cm RF離子源，提升膜層致密度）‌ 雙電子槍系統（支持復雜膜系，如紅外截止濾光片）‌  
‌安裝要求‌： 空間需求：約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)‌ 
電力：3相200V/50-60Hz，80-104KVA‌ 冷卻水：100-140升/分鐘，壓力0.5MPa‌ 應用場景與維護
 ‌典型應用‌：減反射膜、紅外濾光片、光學分色膜等‌  ‌維護要點‌： 每500小時更換機械泵油，2000小時檢測分子泵狀態‌  定期清潔真空室及密封圈，防止粉塵污染‌